2025年08月24日 星期日
技術(shù)特點(包含主要技術(shù)指標(biāo)）：
本技術(shù)主要利用微波化學(xué)氣相沉積法在不同的襯底上生長各種不同類型的金剛石薄膜，可應(yīng)用于金剛石高頻高能微電子機械系統(tǒng)、功能防護涂層和透明電極、金剛石基生物傳感器，IR、紫外以及X光的窗口，場發(fā)射器件，遠(yuǎn)紫外激光器的制備等等。在硬質(zhì)合金上生長的金剛石膜與基體之間有良好的結(jié)合力，可應(yīng)用于輕金屬和碳材料的機械加工。此外，本技術(shù)工藝簡單，成本低廉，適合于工業(yè)推廣和應(yīng)用。技術(shù)指標(biāo)包括：生長面積：≤3英寸；沉積速率：<10mm/h；厚度：3～50微米； 硬度：50-100GPa。
