本項目采用冷噴涂在鋁合金腔體表面噴涂防護涂層,或對鑄造鋁合金缺陷進行修復,滿足其使用要求。該技術提供一種等離子刻蝕腔體表面防護涂層的制備方法,該涂層能減少或阻止腐蝕性氣體對腔體的腐蝕和金屬離子對半導體晶片的污染,提高等離子體刻蝕晶片生產中反應室腔體材料的使用壽命。應用于大規模集成電路等離子體刻蝕腔體表面防護。
技術特點(包含主要技術指標)
本項目利用冷噴涂低溫高速的特點,一方面在鋁合金表面噴涂防護涂層,解決鋁合金在強腐蝕介質中的腐蝕問題,同時保持鋁合金零部件的尺寸精度;另一方面也可以對具有鑄造缺陷或磨損的鋁合金部件進行修復,滿足其使用要求。